La camera di reazione per fotoresist di Lemeng è realizzata con materiali anticorrosivi di alta qualità, dotata di un'eccellente tenuta e resistenza al calore elevato, garantendo un funzionamento efficiente e stabile durante il processo di reazione del fotoresist. Il suo progetto preciso e il sistema di controllo della temperatura possono controllare con precisione le condizioni di reazione e ottimizzare l'effetto della reazione, utilizzata ampiamente nei settori dei semiconduttori, dell'elettronica e altri.
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